Tantalmål

Tantalmål

Tantalmål har egenskaper som høy renhet, tett struktur og god sputterstabilitet, og viser stabil ytelse under høyvakuum og plasmamiljøer. De tynne filmene dannet av tantalmål viser sterk vedheft, god ensartethet og høy kjemisk stabilitet, noe som gjør dem mye brukt i tynnfilmavsetningsfelt som halvledere, integrerte kretser, skjermpaneler og optiske belegg.

produkt introduksjon

Vårt tantalmål

 

 

Dimensjon

Diameter 50-400mm X Tykkelse 3-28mm

Karakter

R05200 R05400 R05252 (Ta-2,5W) R05255 (Ta-10W)

Renhet

Større enn eller lik 99,95 % (maksimalt 99,99 %)

Omkrystalliser

Minimum 95 %

Kornstørrelse

Minimum 40um

Overflatens ruhet

Maksimal Ra0,4

Flathet

0,1 mm eller maksimalt 0,10 %

Toleranse

Diameter +/-0,254mm

 

Produksjonsprosess – Elektronstrålevakuumsmelting

 

 

Vi tar i bruk Electron Beam Vacuum Melting (EB) som kjernesmelteprosessen for tantalbarrer.

Prosessfordeler:

● Ultra-høyvakuummiljø minimerer gassforurensning

● Overlegen fjerning av oksygen, nitrogen, hydrogen og metalliske urenheter

● Svært jevn mikrostruktur og kjemisk sammensetning

● Forbedret korrosjonsbestandighet og levetid

● Utmerket konsistens mellom batch

Denne prosessen er spesielt kritisk for applikasjoner som krever høy renhet,-langtidsstabilitet og ekstrem korrosjonsbestandighet.

 

 

 

Kvalitetskontroll

 

 

Mill Test Certificates (MTC) leveres for hver forsendelse på forespørsel.

  • Kjemisk sammensetningsanalyse
  • Dimensjons- og overflateinspeksjon
  • Testing av mekaniske egenskaper
  • Batchsporbarhet og dokumentasjon

 

 

 

ba202009161609045005127

product-800-600
product-800-600

 

Populære tags: tantal mål, Kina tantal mål produsenter, leverandører, fabrikk

Sende bookingforespørsel

whatsapp

Telefon

E-post

Forespørsel

bag